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Application Note

MOCVD 應用中的流量控制

穩定準確的流量控制

ronkhorst 質量流量控制器在 MOCVD 製造 LED 中發揮著不可或缺的作用。 穩定準確的氫氣流量控制可改善 MOCVD 工藝條件,從而提高 LED 產品質量。

金屬有機化學氣相沉積 (MOCVD) 是 LED 生產中的製造步驟之一。 在 MOCVD 中,載氣將一種或多種氣態有機金屬化合物引導至晶片。 在那裡,這些化合物分解並在晶圓上沉積非常薄的結晶層,以製造發紅光、綠光或藍光的 LED。 沉積材料的類型——通常是某種氮化物——決定了發出的光的顏色。

一家大型電視屏幕 mini-LED 製造商使用以氫氣為載氣的 MOCVD。 他們請求 Bronkhorst Taiwan 提供可靠穩定的載氣供應解決方案。

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Flow control in MOCVD process

MOCVD應用中對流量控制的要求

客戶要求對氫氣供應進行更精確的流量控制,以改進他們的 MOCVD 工藝,從而提高 LED 的質量。 需要穩定的流量條件和流量控制器對設置變化的快速響應。

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重要話題

  • 穩定的氫氣質量流量控制
  • 快速控制
  • 服務好


製程解決方案

為了提高 MOCVD 工藝的質量,進而提高 LED 質量,Bronkhorst 台灣 提供了多個 EL-FLOW 金屬密封質量流量控制器,用作 AIXTRON 第 G3/G4 MOCVD 設備內的標准設備。

這些流量控制器的目的是控制氫氣載氣流量。 穩定的載氣流是整個過程質量的關鍵,因為它的流速決定了 LED 組件的沉積速率。

Bronkhorst 質量流量控制器提供大量氣體來填充 MOCVD 反應器設備的腔室。 使用了幾種不同的類型:小型 EL-FLOW 質量流量控制器,典型氣體流量為 20 毫升/分鐘,大型流量控制器為 20 升/分鐘。

Flow control in MOCVD process

具有出色再密封能力的金屬對金屬密封結構是 EL-FLOW 金屬密封質量流量控制器的獨特之處。 此外,它們具有高質量的表面,非常適合半導體和太陽能行業的嚴格要求。 在當前應用中,還使用了 Bronkhorst EL-PRESS 金屬密封壓力控制器。

在應用中使用這些設備可實現高度穩定的氫氣流速,並對過程條件的變化做出快速響應。 這種改進將導致成本降低以及庫存物品的減少。

現場全方位服務

Bronkhorst 台灣服務辦公室是一個提供全方位服務的部門。 他們對流量設備進行校準和維修,即使它們已經使用了 10 年。 此外,服務團隊還會上門拜訪客戶,就如何使用流量設備提供建議,並提供如何改進流程的技巧。

對於這個項目,服務團隊通過調整質量流量裝置的 PID 設置幫助客戶微調過程,以獲得更好的 MOCVD 系統控制性能。 這種水平的服務提供是任何競爭供應商都無法比擬的。
 

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