蒸気生成・流量制御

ブロンコストのユニークな特許取得済"CEM"技術(Controlled Evaporation Mixing = 制御された蒸発・混合)は正確な蒸気発生・流量制御のために開発されました。従来のバブラーシステムは、蒸気圧が低い流体の場合は十分な蒸気量が確保できませんでした。また、蒸気圧が異なる流体の混合物を一様に蒸発させることが出来ませんでした。CEMはこれらの課題も克服するように開発されました。

ブロンコストの蒸気発生技術は高速、正確、高繰り返し性、効率的です。

CEM技術: Controlled Evaporation Mixing (制御された蒸発・混合)

CEMシステム(Controlled Evaporation Mixing)は革新的な液体供給システム(LDS: Liquid Delivery System)であり、大気圧以上および真空条件にてご利用頂けます。蒸気発生システムは(熱式またはコリオリ式の)液体用マスフローコントローラ、キャリアガス用マスフローコントローラ、温度制御機能付き混合・蒸発システムにより構成されます。このシステムは液体流量1-1200 g/h、飽和蒸気流量50 mln/minから100 ln/minに適合致します。この気化システムはバブラーの置き換えとしてもご利用頂けます。CEMシステムにより、新たに混合液体、溶媒中に溶解している固体溶質の蒸発も可能になります。

特徴

正確に制御されたガス・液体混合
高速応答
高い繰り返し性
非常に安定した蒸気流
ガス/液対比の柔軟な選択
既存のシステムに比べ低い運転温度
PC/PLC(RS232/フィールドバス)による制御(オプション)

蒸気供給モジュール(VDM) 動画

この動画は正確、高速応答、高い柔軟性を有するオールインワンの蒸気供給モジュールVDM(Vapor Delivery Module)の動作機構をご案内致します。

VDMシリーズ: Vapour Delivery Modules(蒸気供給モジュール)

上述のCEM技術に基づいて、ブロンコストは新たな蒸気供給モジュールを設計しました。このコンパクトなサブシステムには、CEMシステムなどのコンポーネントが組み込まれています。 VDMシリーズは、ガス用および液体用のマスフローコントローラと温度制御機能付き気化器に加え、ディスプレイ(1.8" TFT)と制御機能を備えた電源を内蔵しております。オプションとして、ユニットはローカルまたはリモートのトレース加熱温度制御を提供します。コンパクトな「プラグアンドワーク」モジュールは、100 mln/minから最大10 ln/minの範囲で(飽和)蒸気流を生成できます。大気圧以上または真空のプロセスに適用でき、混合液体や溶媒に溶解した固体さえも蒸発させることができます。

付加機能(個別のCEMシステムコンポーネントと比較して)

工事や製造・製作不要
事前テスト済、安全ですぐに使用頂けます
1.8" TFTディスプレイ付き表示設定パネル、アラーム/シグナリングおよびカウンター機能
統合フィールドバスインターフェース(オプション)

蒸気制御の適用例

硬化、薄膜コーティングや平坦化プロセスにおけるCVD (Chemical Vapour Deposition)
参照ガス蒸気濃度に基づく分析装置の試験/校正
防護服への有毒ガスの影響評価
濃度制御された分析装置用参照H₂O蒸気
燃料の加湿
麻酔薬
製薬または食品用途における収着実験またはプロセス

適用事例

Source: Zeton BV

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カタログ
CEM / VDM カタログ

取扱説明書
CEM 取扱説明書
VDM 取扱説明書

モデルの選択

型式	詳細	最大流量(水ベース)	最大流量	最高温度
W-101A	10 W, µ-FLOW用	液体2 g/h	ガス4 l_n/min	200°C
W-102A	10 W, LIQUI-FLOW™/ mini CORI-FLOW™用	液体30 g/h	ガス4 l_n/min	200°C
W-202A	100 W, LIQUI-FLOW™/ mini CORI-FLOW™用	液体120 g/h	ガス10 l_n/min	200°C
W-303B	1000 W, LIQUI-FLOW™/ mini CORI-FLOW™用	液体1200 g/h	ガス100 l_n/min	200°C
SW-100	10 W, VDMシリーズ	液体30 g/h	ガス4 l_n/min	200°C
SW-200	100 W, VDMシリーズ	液体120 g/h	ガス10 l_n/min	200°C